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179千字 字数
2023-08-01 发行日期
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主编推荐语

本书以特定刻蚀应用为例，介绍原子层刻蚀技术。

内容简介

集成电路制造向几纳米节点工艺的发展，需要具有原子级保真度的刻蚀技术，原子层刻蚀（ALE）技术应运而生。

本书主要内容有：热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等，探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术，涵盖了定向和各向同性ALE的全新研究和进展。

目录

  • 版权信息
  • 译者序
  • 缩写词表
  • 第1章 引言
  • 参考文献
  • 第2章 理论基础
  • 2.1 刻蚀工艺的重要性能指标
  • 2.1.1 刻蚀速率（ER）
  • 2.1.2 刻蚀速率不均匀性（ERNU）
  • 2.1.3 选择性
  • 2.1.4 轮廓
  • 2.1.5 关键尺寸（CD）
  • 2.1.6 线宽粗糙度和线边缘粗糙度（LWR和LER）
  • 2.1.7 边缘放置误差（EPE）
  • 2.1.8 深宽比相关刻蚀（ARDE）
  • 2.2 物理吸附和化学吸附
  • 2.3 解吸
  • 2.4 表面反应
  • 2.5 溅射
  • 2.6 注入
  • 2.7 扩散
  • 2.8 三维形貌中的输运现象
  • 2.8.1 中性粒子输运
  • 2.8.2 离子输运
  • 2.8.3 反应产物输运
  • 2.9 刻蚀技术的分类
  • 参考文献
  • 第3章 热刻蚀
  • 3.1 热刻蚀的机理和性能指标
  • 3.1.1 刻蚀速率和ERNU
  • 3.1.2 选择性
  • 3.1.3 轮廓和CD控制
  • 3.1.4 ARDE
  • 3.2 应用示例
  • 参考文献
  • 第4章 热各向同性ALE
  • 4.1 热各向同性ALE机制
  • 4.1.1 螯合/缩合ALE
  • 4.1.2 配体交换ALE
  • 4.1.3 转化ALE
  • 4.1.4 氧化/氟化ALE
  • 4.2 性能指标
  • 4.2.1 刻蚀速率（EPC）
  • 4.2.2 ERNU（EPC非均匀性）
  • 4.2.3 选择性
  • 4.2.4 轮廓和ARDE
  • 4.2.5 CD控制
  • 4.2.6 表面光滑度
  • 4.3 等离子体辅助热各向同性ALE
  • 4.4 应用示例
  • 4.4.1 区域选择性沉积
  • 4.4.2 横向器件的形成
  • 参考文献
  • 第5章 自由基刻蚀
  • 5.1 自由基刻蚀机理
  • 5.2 性能指标
  • 5.2.1 刻蚀速率和ERNU
  • 5.2.2 选择性
  • 5.2.3 轮廓和ARDE
  • 5.2.4 CD控制
  • 5.3 应用示例
  • 参考文献
  • 第6章 定向ALE
  • 6.1 定向ALE机制
  • 6.1.1 具有定向改性步骤的ALE
  • 6.1.2 具有定向去除步骤及化学吸附和扩散改性的ALE
  • 6.1.3 具有定向去除步骤和通过反应层沉积进行改性的ALE
  • 6.2 性能指标
  • 6.2.1 刻蚀速率（EPC）
  • 6.2.2 ERNU（EPC非均匀性）
  • 6.2.3 选择性
  • 6.2.4 轮廓和ARDE
  • 6.2.5 表面平整度和LWR/LER
  • 6.3 应用示例
  • 6.3.1 具有定向改性步骤的ALE
  • 6.3.2 具有定向去除步骤及化学吸附和扩散改性的ALE
  • 6.3.3 具有定向去除步骤和通过反应层沉积进行改性的ALE
  • 参考文献
  • 第7章 反应离子刻蚀
  • 7.1 反应离子刻蚀机制
  • 7.1.1 同时发生的物种通量
  • 7.1.2 化学溅射
  • 7.1.3 混合层形成
  • 7.1.4 刻蚀产物的作用
  • 7.2 性能指标
  • 7.2.1 刻蚀速率
  • 7.2.2 ERNU
  • 7.2.3 ARDE
  • 7.2.4 选择性
  • 7.2.5 轮廓控制
  • 7.2.6 CD控制
  • 7.2.7 表面光滑度
  • 7.2.8 LWR/LER
  • 7.3 应用示例
  • 7.3.1 图案化
  • 7.3.2 逻辑器件
  • 7.3.3 DRAM和3D NAND存储器
  • 7.3.4 新兴存储
  • 参考文献
  • 第8章 离子束刻蚀
  • 8.1 离子束刻蚀的机理和性能指标
  • 8.2 应用示例
  • 参考文献
  • 第9章 刻蚀物种产生
  • 9.1 低温等离子体概述
  • 9.2 电容耦合等离子体
  • 9.3 电感耦合等离子体
  • 9.4 离子能量分布调制
  • 9.5 等离子体脉冲
  • 9.6 格栅源
  • 参考文献
  • 第10章 新兴刻蚀技术
  • 10.1 电子辅助化学刻蚀
  • 10.2 光子辅助化学刻蚀
  • 参考文献
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出版方

机械工业出版社

机械工业出版社是全国优秀出版社，自1952年成立以来，坚持为科技、为教育服务，以向行业、向学校提供优质、权威的精神产品为宗旨，以“服务社会和人民群众需求，传播社会主义先进文化”为己任，产业结构不断完善，已由传统的图书出版向着图书、期刊、电子出版物、音像制品、电子商务一体化延伸，现已发展为多领域、多学科的大型综合性出版社，涉及机械、电工电子、汽车、计算机、经济管理、建筑、ELT、科普以及教材、教辅等领域。