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84千字 字数
2018-11-01 发行日期
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主编推荐语

国科图助力国家科技重大专项发展

内容简介

为了有效保障我国科学技术事业的发展，为国家科技重大专项提供学科情报服务支撑，中国科学院国家科学图书馆( 简称国科图) ，按照国家科技图书文献中心( NSTL) 服务国家重大科技专项的总体战略，组建了面向重大专项的学科情报服务团队，以承担”极大规模集成电路制造装备与成套工艺”( 简称02 专项)国家重大科技专项任务较为集中的中国科学院微电子研究所( 以下简称”微电子所”) 作为学科情报服务对象，通过专项研发领域概况调研和专项科研团队情报服务需求调研，缜密策划了嵌入重大专项关键技术研发过程的学科情报服务，提供了专项研发关注的专利技术分析报告等系列情报产品，得到了专项科研团队的充分认可和满意评价。

目录

  • 封面
  • 书名页
  • 内容简介
  • 版权页
  • 序
  • 目录
  • 第1章　绪　　论
  • 1.1　需求调研
  • 1.2　专利分析
  • 1.3　数据来源
  • 1.4　术语解释
  • 第2章　2015年集成电路产业公开专利统计分析
  • 2.1　集成电路产业专利总体分析
  • 2.1.1　专利申请时间趋势
  • 2.1.2　专利申请技术构成分析
  • 2.1.3　专利申请国家/地区分布
  • 2.1.4　专利申请人分析
  • 2.2　集成电路设计类专利分析
  • 2.2.1　专利申请技术构成分析
  • 2.2.2　专利申请国家/地区分布
  • 2.2.3　专利申请人分析
  • 2.3　集成电路工艺制造类专利分析
  • 2.3.1　专利申请技术构成分析
  • 2.3.2　专利申请国家/地区分布
  • 2.3.3　专利申请人分析
  • 2.4　集成电路封装测试类专利分析
  • 2.4.1　专利申请技术构成分析
  • 2.4.2　专利最早优先权国家/地区分布
  • 2.4.3　专利申请人分析
  • 2.5　集成电路材料类专利分析
  • 2.5.1　专利申请技术构成分析
  • 2.5.2　专利申请国家/地区分布
  • 2.5.3　专利申请人分析
  • 2.6　集成电路设备仪器类专利分析
  • 2.6.1　专利申请技术构成分析
  • 2.6.2　专利申请国家/地区分布
  • 2.6.3　专利申请人分析
  • 第3章　工艺领域关键技术分析
  • 3.1　高介质金属栅工艺技术专利分析
  • 3.1.1　专利申请时间趋势
  • 3.1.2　专利申请技术构成分析
  • 3.1.3　专利申请国家/地区分布
  • 3.1.4　专利申请人分析
  • 3.1.5　在华专利分析
  • 3.2　鳍式场效晶体管工艺技术专利分析
  • 3.2.1　专利申请时间趋势
  • 3.2.2　专利申请技术构成分析
  • 3.2.3　专利申请国家/地区分布
  • 3.2.4　专利申请人分析
  • 3.2.5　在华专利分析
  • 第4章　存储领域关键技术分析
  • 4.1　MRAM技术的专利态势分析
  • 4.1.1　引言
  • 4.1.2　专利申请时间趋势
  • 4.1.3　专利申请技术构成分析
  • 4.1.4　专利申请国家/地区分布
  • 4.1.5　专利申请人分析
  • 4.2　RRAM技术的专利态势分析
  • 4.2.1　引言
  • 4.2.2　专利申请时间趋势
  • 4.2.3　专利申请技术构成分析
  • 4.2.4　专利申请国家/地区分布
  • 4.2.5　专利申请人分析
  • 4.3　PCRAM技术的专利态势分析
  • 4.3.1　引言
  • 4.3.2　专利申请时间趋势
  • 4.3.3　专利申请技术构成分析
  • 4.3.4　专利申请国家/地区分布
  • 4.3.5　专利申请人分析
  • 4.4　3D存储技术专利态势分析
  • 4.4.1　引言
  • 4.4.2　专利申请时间趋势
  • 4.4.3　专利申请技术构成分析
  • 4.4.4　专利申请国家/地区分布
  • 4.4.5　专利申请人分析
  • 第5章　光刻领域关键技术分析
  • 5.1　纳米压印光刻专利态势分析
  • 5.1.1　引言
  • 5.1.2　专利申请时间趋势
  • 5.1.3　专利申请技术构成分析
  • 5.1.4　专利申请国家/地区分布
  • 5.1.5　专利申请人分析
  • 5.2　定向自组装光刻技术专利态势分析
  • 5.2.1　引言
  • 5.2.2　专利申请时间趋势
  • 5.2.3　专利申请技术构成分析
  • 5.2.4　专利申请国家/地区分布
  • 5.2.5　专利申请人分析
  • 5.3　电子束光刻专利态势分析
  • 5.3.1　引言
  • 5.3.2　专利申请时间趋势
  • 5.3.3　专利申请技术构成分析
  • 5.3.4　专利申请国家/地区分布
  • 5.3.5　专利申请人分析
  • 5.4　多重图形技术专利态势分析
  • 5.4.1　引言
  • 5.4.2　专利申请时间趋势
  • 5.4.3　专利申请技术构成分析
  • 5.4.4　专利申请国家/地区分布
  • 5.4.5　专利申请人分析
  • 5.5　EUV光刻技术专利态势分析
  • 5.5.1　引言
  • 5.5.2　专利申请时间趋势
  • 5.5.3　专利申请技术构成分析
  • 5.5.4　专利申请国家/地区分布
  • 5.5.5　专利申请人分析
  • 封底
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出版方

电子工业出版社

电子工业出版社成立于1982年10月，是国务院独资、工信部直属的中央级科技与教育出版社，是专业的信息技术知识集成和服务提供商。经过三十多年的建设与发展，已成为一家以科技和教育出版、期刊、网络、行业支撑服务、数字出版、软件研发、软科学研究、职业培训和教育为核心业务的现代知识服务集团。出版物内容涵盖了电子信息技术的各个分支及工业技术、经济管理、科普与少儿、社科人文等领域，综合出版能力位居全国出版行业前列。